令和7年10月18日(土)に、九州大学筑紫キャンパスで開催された第16回半導体材料・デバイスフォーラムにおいて、本校学生がポスター発表 優秀賞を受賞し、髙松校長より賞状が授与されました。
受賞者 電子情報システム工学専攻1年 山田 晴己タイトル 二段階ボッシュプロセスにより形成したSi深孔の評価
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