第16回半導体材料・デバイスフォーラムで本校学生がポスター発表優秀賞を受賞しました。(10/18)

2026.01.13

令和7年10月18日(土)に、九州大学筑紫キャンパスで開催された第16回半導体材料・デバイスフォーラムにおいて、本校学生がポスター発表　優秀賞を受賞し、髙松校長より賞状が授与されました。

ポスター発表　優秀賞

受賞者　　電子情報システム工学専攻1年　山田 晴己
タイトル　二段階ボッシュプロセスにより形成したSi深孔の評価

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